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          武漢邁威爾科技有限公司
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             表面處理
          WUHAN MARVELL TECHNOLGY CO.,LTD
          濺射鍍膜流量控制

                在濺射鍍膜工藝中,等離子氣體用于填充具有濺射靶和基材的真空室。室內等離子氣體的數量,決定了濺射靶釋放的原子數。在濺射反應中,需將氧氣、氦氣等反應氣體添加到真空室中,在基材表面產生化合物。為防止濺射靶中毒,需保持真空室內含有適當比例的反應氣體。
                在濺射工藝中,流量計的快速響應和小流量測量技術,對于濺射控制至關重要。陰極陣列濺射應用中常采用多種氣體,每種氣體均由1臺質量流量控制器控制,這些控制器通過串口或模擬輸入/輸出控制。


                ALICAT優勢:
          ? 對工況及環境的溫度、壓力變化不敏感。
          ? 后置閥門,與高真空室具有良好的兼容性。
          ? 控制時間僅25~100ms。
          ? 現場可調PID,滿足您的特殊工況要求。
          ? 可選循環控制,以控制設備的質量流量、體積流量或絕壓,并可同步測量質量流量、溫度、體積流量和絕壓。
          ? 具有RS232通信,可進行多點控制,僅需1個串口,即可實現與26臺ALICAT設備的通信與控制。
          ? 現場可選30單一或種混合氣體。

           

           

           

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